ผู้คนมองว่านาโนเอ็นไซม์ออกไซด์เป็นวัสดุเร่งปฏิกิริยาที่เหมาะสมที่สุดสำหรับการจำลองการรักษาความผิดปกติทางพยาธิสรีรวิทยาที่เกิดจากความเครียดจากปฏิกิริยาออกซิเดชั่นด้วยเอนไซม์ต้านอนุมูลอิสระ แต่กิจกรรมการเร่งปฏิกิริยาของออกไซด์นาโนเอ็นไซม์ยังคงไม่เป็นที่น่าพอใจ
ด้วยเหตุนี้ Tang Zhiyong, Wang Hao, Xingxin Fa, Qiao Zengying และคนอื่นๆ จาก National Nanometer Center ได้รายงานเป็นครั้งแรกว่าชั้นบางเฉียบนี้ซีโอ2ที่มีความเครียดจากภายในจะใช้สำหรับการต้านทานการเกิดออกซิเดชันระดับนาโน
ประเด็นสำคัญของบทความนี้
ประเด็นสำคัญที่ 1 จากการคำนวณและวิเคราะห์ทางทฤษฎี พบว่าความเค้นผิวของซีโอ2สัมพันธ์กับความไม่อิ่มตัวของการประสานงานของ Ce และความหนาของซีโอ2- ดังนั้น จึงสังเคราะห์แผ่นนาโนบางพิเศษที่มีความหนา ~ 1.2 นาโนเมตร และความเครียดในระนาบ/ความเครียดนอกระนาบถึง ~ 3.0% และ ~ 10.0% ตามลำดับ
จุดสำคัญ 2 เมื่อเปรียบเทียบกับนาโนคิวบ์ พันธะเคมี Ce-O ที่เป็นนาโนชีตบางเฉียบได้เพิ่มโควาเลนซ์ ส่งผลให้มีกิจกรรมการเร่งปฏิกิริยา SOD (ซูเปอร์ออกไซด์ดิสมิวเตส) จำลองเพิ่มขึ้น 2.6 เท่า และความสามารถในการต้านอนุมูลอิสระโดยรวมเพิ่มขึ้น 2.5 เท่า การทาแบบบางเฉียบนี้ซีโอ2ฟิล์มที่มีความเครียดจากภายในเพื่อรักษาโรคหลอดเลือดสมองตีบในร่างกายมีประสิทธิภาพดีกว่ายาทางคลินิกแบบดั้งเดิม
เวลาโพสต์: Sep-08-2023