ผู้คนถือว่านาโนเอนไซม์ออกไซด์เป็นวัสดุเร่งปฏิกิริยาที่เหมาะสมที่สุดสำหรับการจำลองการบำบัดโรคทางพยาธิสรีรวิทยาที่เกิดจากความเครียดออกซิเดชันด้วยเอนไซม์ต้านอนุมูลอิสระ แต่กิจกรรมเร่งปฏิกิริยาของนาโนเอนไซม์ออกไซด์ยังคงไม่น่าพอใจ
ด้วยเหตุนี้ Tang Zhiyong, Wang Hao, Xingxin Fa, Qiao Zengying และคนอื่นๆ จากศูนย์นาโนเมตรแห่งชาติจึงได้รายงานเป็นครั้งแรกว่าแผ่นฟิล์มบางพิเศษซีโอ2ที่มีความเครียดภายในใช้เพื่อต้านทานการเกิดออกซิเดชันระดับนาโน
ประเด็นสำคัญของบทความนี้
จุดสำคัญ 1. จากการคำนวณและวิเคราะห์ทางทฤษฎี พบว่าความเค้นพื้นผิวของซีโอ2เกี่ยวข้องกับการประสานงานความไม่อิ่มตัวของ Ce และความหนาของซีโอ2ด้วยเหตุนี้ จึงได้สังเคราะห์แผ่นนาโนขนาดบางพิเศษที่มีความหนาประมาณ 1.2 นาโนเมตร และค่าความเค้นในระนาบ/ความเค้นนอกระนาบจะอยู่ที่ประมาณ 3.0% และประมาณ 10.0% ตามลำดับ
จุดสำคัญ 2. เมื่อเปรียบเทียบกับนาโนคิวบ์ พันธะเคมี Ce-O แบบนาโนชีทที่บางเป็นพิเศษนี้จะมีโควาเลนต์ที่เพิ่มขึ้น ส่งผลให้กิจกรรมเร่งปฏิกิริยา SOD (superoxide dismutase) จำลองเพิ่มขึ้น 2.6 เท่า และความสามารถในการต้านอนุมูลอิสระโดยรวมเพิ่มขึ้น 2.5 เท่า การใช้พันธะเคมี Ce-O แบบบางเป็นพิเศษนี้ซีโอ2ฟิล์มที่มีแรงกดภายในเพื่อรักษาโรคหลอดเลือดสมองตีบในร่างกายมีประสิทธิภาพดีกว่ายาทางคลินิกแบบดั้งเดิม
เวลาโพสต์: 08-09-2023